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日本真空光学(株)

住所 〒100-8405
東京都千代田区丸ノ内一丁目5番1号 新丸ノ内ビルディング
TEL 03-3218-7998
FAX 03-3218-7063
URL http://www.ocj.co.jp
E-mail
設立年 1960年
資本金 210,000,000円
従業員数 120名
代表取締役社長 和田 賢憲
  最終更新日:2024年01月22日

企業PR

1946年の創業以来、光学薄膜技術の向上に努め、高周波プラズマ・イオン・プロセス技術の確立など、常に技術の最先端を切り拓いてきた日本真空光学。その卓越した光学薄膜技術力と確かな品質管理体制により生みだされた製品は家電から情報・通信、バイオ、宇宙開発など、幅広い領域で高い信頼性を得ています。当社では、技術の新しい可能性を提案していく”問題解決型企業”として、お客様の抱えるさまざまなテーマに応え、お客様満足を追求し続けます。

日本真空光学(株) 取り扱い製品

無偏光ビームスプリッター

無偏光ビームスプリッター

用途:干渉計 計量機器 光通信

特徴
・広帯域にて偏光の分離幅が小さい l Ts-Tp l < 2.5%
・光の損失が少ない
・高い耐環境性

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蛍光分析用フィルタ

蛍光分析用フィルタ

用途:蛍光分析 ラマン分光

特徴
・急峻な波長分離性
・高透過率 & 高遮断性
・低自家蛍光

目的のアプリケーションに合わせた
カスタマイズ製品を提供いたします。

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193nmレーザー用ウィンドウ&ミラー

193nmレーザー用ウィンドウ&ミラー

用途:ArF エキシマレーザー

特徴
AR:193nmの透過率99.0%以上 θ=0°
HR:193nmの反射率96.0%以上 θ=45°

・光の損失が少ない
・高い耐光性
・高い基板面精度

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急峻ダイクロイックミラー(DM)

新しい膜厚制御システムを開発し、制御精度を向上させる事に成功致しました。その結果、設計値に近い、立ち上がりが急峻なDMを作製することが可能です。

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極低反射AR

多層の誘電体膜を光学材料の表面に形成することにより、表面での光の反射を防ぎ、 透過率を向上させることができます。

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リニアバリアブルフィルタ

一枚の基板に、線形でくさび形の連続的に変化するスペクトル特性をもつ光学フィルターです。入射位置をスライドさせることにより、透過波長を可変することができます。

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赤外線吸光用BPF

ガスが固有の赤外線波長を吸収する性質を利用して、試料ガス中の成分と濃度を測る赤外線吸光方式器に使用される光学フィルターです。

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超低反射可視域ワイドAR

多層の誘電体膜を光学材料の表面に形成することにより、表面での光の反射を防ぎ、 透過率を向上させることができます。

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193nm反射防止膜

193nm反射防止膜

特徴は、低損失・高透過率(T≧99% @193nm)でかつ、
高耐光性を有する膜質を実現しております。

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UV-C パスフィルター

UV-C パスフィルター

UV-C帯にて高い透過率を達成しております。

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近赤外3波長バンドパスフィルター

近赤外3波長バンドパスフィルター

狭い半値幅と高透過率のBPFとなります。
同時に高い阻止性能も達成し、任意の波長にて製作が可能です。

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