| 住所 | 〒2220033 横浜市港北区新横浜2-5-14 Wise Next 新横浜 3F |
|---|---|
| TEL | 045-285-9438 |
| FAX | |
| URL | https://beneq.com/en/ |
| tohru.furuyama@beneq.com | |
| 設立年 | 2021年 |
| 資本金 | 5,000,000円 |
| 従業員数 | 4名 |
| 代表取締役 | トミー・ヴァイニオ |
| 最終更新日：2023年02月20日 |
--- Home of ALD ---
弊社は1984年に、原子層堆積（ALD）技術の工業生産への使用を、世界で初めて開始しました。今日、私たちはALD機器とR＆Dサービスのプロバイダーとして皆さまに広くご愛顧頂いています。私たちの使命は、製品生産用でも、研究開発用でも、その用途と目的に適った優れた装置をご提供し、産業用ALDソリューションを通じてテクノロジーのメガトレンドを実現することです。平面でも、立体でも、非常に緻密な欠陥のない機能薄膜や保護薄膜を、均一に成膜するBeneqのALD装置は、お客様の製品の課題解決や、新たな付加価値の創出に、必ずお役に立てるものと存じます。
BeneqProdigy™は、ALDを使用した化合物半導体およびMEMSデバイスの大量生産の、手頃な業界標準を提示する新しい装置です。RF IC (GaAs/GaN/InP)、LED、VCSEL、光検出器などの複合半導体、およびMEMSデバイスの製造にとって、ウェハのサイズやタイプによらず、最高のパッシベーションおよび封止フィルムを実現する理想的なソリューションです。最新のALDテクノロジーによりデバイスパフォーマンスを向上させる、簡潔で高品質な75〜200 mmウェハ対応バッチツールを、低コストでお届けします。
Beneq Transform®は、汎用性と適応性を備えたまったく新しいクラスのALDクラスター装置製品で、幅広いアプリケーションと市場セグメントに対応致します。 ThermalとPlasma Enhanced ALDプロセスモジュールを組み合わせたBeneq Transform®は、ムーアの法則以上の様々なデバイス市場にALDソリューションを提供します。
BENEQTransform®300は、ThermalとPlasma ALD技術を組み合わせた300 mm ALDクラスターツールであり、IDMSとFoundriesに非常に汎用性の高いソリューションを提供します。 BENEQTransform®300は、ゲート誘電体から反射防止膜、最終パッシベーションまたはカプセル化など、幅広い高度な薄膜アプリケーションに対応致します。
The Beneq C2R is a cluster-compatible spatial ALD tool equipped with a continuous rotary mechanism and robust plasma-enhancement. With rotation speeds up to 200 rpm and in-situ optical broadband monitoring (BBM), C2R is the perfect production tool for high throughput optical coatings.
The Beneq P400A is a highly optimized, production-proven batch ALD system for high volume manufacturing of optical coatings and moisture barriers. P400A is large enough to offer significant capacity, but small enough to maintain excellent uniformity within batches and short cycle times.
The Beneq P800 is a production-proven batch ALD system designed for industrial manufacturing with ALD coatings. Boasting a vacuum chamber with a diameter of 800 mm, this tool provides plenty space for high volume coating production while still providing excellent batch uniformity.
