光製品Navi運営へのお問合せ

(株)バイコウスキージャパン

住所 〒275-0001
千葉県習志野市東習志野 6-17-13
TEL 047-473-8150
FAX 047-473-8153
URL https://baikowski.co.jp/
E-mail
設立年 1988年
資本金 70,000,000円
従業員数 59名
代表取締役社長 繁田 岳志
  最終更新日:2024年02月20日

OPIE '24 出展の見どころ

高純度アルミナ微粉末
セラミックYAG
非線形光学結晶(LBO、 KTP、 KTA、 RTP)
半導体・電子部品用研磨スラリー
サファイア研磨用スラリー
アルミナ研磨材(Baikalox)
酸化セリウム研磨材(CEROX、Haoruiox)
GC研磨材(フルテック社製)

詳細はこちら

企業PR

■バイコウスキーは1904年にフランスで設立された、100年以上の歴史を持つアルミナを主体とした超微粉末製造メーカーです。現在も高純度アルミナ(酸化アルミニウム)、スピネル、セリア(酸化セリウム)などの超微粒子を世界の電子部品、照明、ファインセラミックス業界等に原材料、研磨材として供給し、先端技術を支えています。ほとんどの製品は各顧客の用途・技術に合わせたカスタムメイドプロダクトであり、現在も市場の要求に応え、強力なR&Dチームが品質改良、新製品の開発に日々取り組んでおります。また市場の需要に対応した生産量の増強、コストダウンを目指し、必要な投資を続けています。
■バイコウスキージャパンは1988年に設立され、とくに1998年以降バイコウスキーグループの研磨スラリー開発・製造の中心的役割を担って活動しております。電子部品、半導体、磁気メディア、光学製品等に用いられる幅広い単一材料、複合材料のカスタムメイドスラリーの開発、製造を活発におこなっております。CMPラボでは広いバラエティーの砥粒(アルミナ、シリカ、セリア、ダイヤモンド等)と種々の化学薬剤をベースに、最先端の研磨装置・評価機器を用いて、最適な研磨スラリーを開発しお客さまへご提供しております。研磨スラリーのカスタムメイド化は、その過程において多様なノウハウの蓄積をもたらしています。これにより汎用研磨スラリーを用いておこなわれている現行の研磨工程改善に寄与するのはもちろん、製造コスト・製品性能の飛躍的な向上を可能にしています。お客さまへ最適なソリューションをご提供するための原動力となっています。
■セラミックYAGは、単結晶に比べて量産に適し、低コスト化が可能です。独自の技術により単結晶に匹敵する低光散乱性を発揮。より大きなロッドサイズに対応できるほか、ドーパントの均一性など多くの特徴を持っています。
■SOLVAY社製の酸化セリウム研磨材“CEROX1650”は研磨力や汎用性が高くレンズや光学製品の精密研磨に使用されています。同じくBaotou Haorui Rare Earth社製の酸化セリウム研磨材”Haoruiox”も精密ガラスの研磨等で広く使用されています。
■Fultech Technology社のGC研磨材は分級精度がよく高番手の精密ラップで使用されています。

取扱海外企業

  • Baikowski SA
  • Baikowski Malakoff Inc,
  • Baikowski International Corp,
  • Cristal Laser
  • Solvay
  • Baotou Haorui Rare Earth
  • Fultech Technology

(株)バイコウスキージャパン 取り扱い製品

高純度アルミナ微粉末

応用分野:照明(ナトリウムランプ、蛍光管、LED)、時計&電話(サファイアウィンドウ、セラミックパーツ)、エレクトロニクス(半導体)、自動車(カーポリッシュ、リチウム電池)、医療(バイオセラミックス)等  【仏】 BAIKOWSKI社および【米】 BAIKOWSKI Malakoff社

資料請求する

セラミックYAG

『多結晶セラミックYAG』は、単結晶に比べて量産に適し、低コスト化が可能です。
独自の技術により単結晶に匹敵する低光散乱性を発揮。
より大きなロッドサイズに対応できるほか、ドーパントの均一性など
多くの特徴を持っています。
【特長】
 優れた物理的特性
 優れた透過波面歪(ノンファセット)
 ユニークなコンポジットデザイン
 量産時の品質安定性、コストが優れる
◯その他 透明セラミックも製造可能"

資料請求する

非線形光学結晶

LBO、KTP、KTA、RTP 結晶などの非線形光学結晶は、レーザーメス、ライフサイエンス、セキュリティと防衛、さらには数多くの材料加工アプリケーションなど、最先端のテクノロジーに活用されています。 【仏】Cristal Laser社

資料請求する

各種研磨用スラリー

CMPラボでは幅広い砥粒(アルミナ、シリカ、セリア、ダイヤモンド等)と種々の化学薬剤をベースに、最先端の研磨装置・評価機器を用いて、最適な研磨スラリーを開発し、お客さまへご提供しております。

資料請求する

酸化セリウム研磨材

ハードディスク、フォトマスク、水晶、石英、光学部品、精密レンズなど様々なガラス研磨に適した研磨材を供給しています。

資料請求する

ページの先頭へ