住所 | 〒100-8162 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 |
---|---|
TEL | 03-6260-2061 |
FAX | 03-6260-2098 |
URL | https://www.eneos.co.jp/business/function/nanoimprint/ |
設立年 | 1888年 |
資本金 | 30,000,000,000円 |
従業員数 | 9,030名 |
最終更新日:2021年05月20日 |
住所 | 〒100-8162 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 |
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TEL | 03-6260-2061 |
FAX | 03-6260-2098 |
URL | https://www.eneos.co.jp/business/function/nanoimprint/ |
設立年 | 1888年 |
資本金 | 30,000,000,000円 |
従業員数 | 9,030名 |
最終更新日:2021年05月20日 |
ナノサイズの周期凹凸構造により位相差を発現
・レーザー光源に使用可能な200℃以上の高耐熱、高耐光性
・位相差領域のパターニングや1チップ内で複数光学軸角度の設定が可能
・光入射角依存性が小さい
基材表面に転写した無機微細構造により光の拡散性を制御
・レーザー光源に使用可能な高耐熱性・高耐光性を実現
・拡散角のコントロールが可能
・ホットスポットがなく、理想的なガウシアン拡散特性
レーザー光をトップハット出力に変換
・ご要望の拡散角度に応じて素子作製が可能
・レーザー光源に使用可能な高耐熱性・高耐光性を実現
無機微細構造による回折現象を用いて出射パターンを制御
・レーザー光源に使用可能な高い耐熱性と高耐光性
・通常では難しい無機DOEの大量生産を実現
・ご要望の出射パターンに応じて、微細構造設計、素子製作が可能
・矩形・円形・ドット・ロゴのような複雑な出射パターン作製など、回折現象を用いた様々な光制御が実現可能