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Vistec Electron Beam GmbH

住所 〒-
Germany
TEL -
FAX
URL https://www.vistec-semi.com/
E-mail electron-beam@vistec-semi.com
設立年 2006年
CEO マティアス・スロドフスキー
  最終更新日:2026年07月01日

企業PR

ドイツ・イエナに拠点を置くVistec Electron Beam GmbHは、長年にわたり電子ビーム描画装置を供給してきた実績を持ち、業界をリードする技術ソリューションを提供しています。
可変成形ビーム(VSB)方式に基づく当社の電子ビーム描画装置は、化合物半導体を含む半導体製造における電子ビーム直接描画、ダイレクトマスク作製、フォトニクス、新興市場など、産業用途および先端研究分野で広く活用されています。
効率的なデータ処理と露光手法の拡張により、特にAR/VR分野において新たな応用が可能です。
Vistecの技術は、自動化されたハンドリング、高い柔軟性、精密な描画精度、優れた生産性を兼ね備え、試作から少量生産まで幅広く対応可能となっています。

Vistec Electron Beam GmbH 取り扱い製品

Vistec SB254

Vistec SB254

Vistec SB254は、マスク作製および直接描画に対応する、高い汎用性とコスト効率を備えた電子ビーム描画装置です。210 × 210 mmのステージを搭載し、最大7インチのマスクおよび直径200 mmのウエハに対応しています。透明基板・不透明基板および化合物半導体の処理が可能で、モジュール構造、基板の自動搬送機能、高度な操作・データ作成ソフトウェアにより、高い生産性と信頼性を実現します。

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Vistec SB3050-2

Vistec SB3050-2

Vistec SB3050-2は、可変成形ビーム(VSB)技術を搭載した最先端の電子ビーム描画装置で、最大300 mmのマスクまたはウエハ基板全面への描画が可能です。研究開発、試作、少量生産に柔軟に対応します。
効率的な露光手法と可変成形ビーム(VSB)電子光学技術により、高速かつ高解像度の露光が可能です。
セルプロジェクション機能が、繰り返し・曲線構造のスループットとパターン精度を向上します。

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