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フォトテクニカ(株)

住所 〒336-0017
埼玉県さいたま市南区南浦和2-18-2
TEL 048-871-0067
FAX 048-871-0068
URL https://www.phototechnica.co.jp
E-mail voc@phototechnica.co.jp
設立年 1986年
資本金 19,500,000円
従業員数 16名
代表取締役 大山 健
  最終更新日:2026年09月04日

Photonics Innovation 2026 出展の見どころ

パワーレーザーPlus では、高平均出力と高出力安定性を併せ持つ LIGHT CONVERSION社製 産業用フェムト秒レーザ CARBIDEをご紹介。長時間出力安定性、高ビーム品質、パルス幅可変等を特長とし、パルスオンデマンド機能や高調波・BiBurst 他のオプションにより多彩なアプリケーションに対応する事をご案内。更に高出力、高エネルギー対応の高信頼性ハイエンドシステムOPCPAをご紹介。

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企業PR

当社はレーザ発振器及び光学機器・部品の輸入販売からスタートし、世界の革新的で独創的な電子光学機器の輸入販売と高度な技術サービスの提供を通して発展してまいりました。主要商品としてレーザ光源は産業加工用・研究開発・バイオメディカル・理科学用に最適な最先端のフェムト秒・ピコ秒・ナノ秒レーザ、高性能CWレーザを取り扱っております。それと共にレーザ光を調整する各種機能製品(AO/EO変調器、空間光変調器、光 / 電気変換器、レーザパワー安定化機器、パルスシェーパ、ビームプロファイラー等)や計測用製品(パルス幅計測器、出力・エネルギー計測器)を用意しております。また分光分析・物質の性質・解析の分野では高性能マルチスペクトルファイバー入射型分光器やマイクロラマン識別装置を提供しています。更にサーマルイメージング・画像処理用にIRレンズ・非球面レンズ、半導体検査やイメージングにも有効な波長可変セレクター、レーザ用の光学部品や保護メガネ等を取扱い、さらに近年の薄膜技術の発展に対応して薄膜密着強度テスターや光学干渉式膜厚モニターを提供しております。今後も光とナノテクノロジーの分野にしっかりとした軸足を置き市場の動向に対応して、フロンティア商社としての更なる発展を目指してまいります。

取扱海外企業

  • Altechna Co. Ltd.
  • APE (Angewandte Physik & Elektronik GmbH)
  • Applied Surface Technologies
  • Avantes BV
  • Beamera
  • BEOC (Brockton Electro-Optics Corp.)
  • ConOptics, Inc.
  • DAUSINGER+GIESEN GmbH
  • EKSPLA UAB
  • EKSMA Optics UAB
  • Femtum Inc.
  • few-cycle Inc.
  • Gentec-EO (Electro-Optics) Inc.
  • INFICON Inc.
  • Integrated Optics UAB
  • IntraAction Corp.
  • IPG Photonics Corp.
  • LEOS Srl
  • Light Conversion UAB
  • LightPath Technologies Inc.
  • Meadowlark Optics Inc.
  • n2 Photonics GmbH
  • OPTOGAMA Ltd.
  • OPTOMAN (OPTOMENAS UAB)
  • ProTrusTech Co., Ltd.
  • QS Lasers UAB
  • Quad Group Inc.
  • SpectroLight Inc.
  • Sphere Ultrafast Photonics          
  • TREND NETWORKS Ltd.

フォトテクニカ(株) 取り扱い製品

ユニボディデザイン産業⽤・理科学用高出力フェムト秒レーザ  (CARBIDE-CB3 最大120W, UV 50W, 2mJ, 最大10MHz)

ユニボディデザイン産業⽤・理科学用高出力フェムト秒レーザ (CARBIDE-CB3 最大120W, UV 50W, 2mJ, 最大10MHz)

1 筐体内に全てを組込み高安定フェムト秒レーザ。パルス・オン・デマンドやBiBurst機能により金属・セラミックス・ガラス等の微細加工に最適。I-OPAによりフレキシブルに波長可変。
●パルス幅:190fs〜20ps可変
●最⼤パルスエネルギー:2mJ
●最⼤出⼒:120W(IR), 50W(UV)
●繰返し周波数:シングルショット~10MHz
●⾼調波:515/343/257/206nm  
 

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光パラメトリック チャープパルス増幅器システム  ( OPCPA システム)

光パラメトリック チャープパルス増幅器システム  ( OPCPA システム)

理科学用途の応用で一番要求されるfew-cycleのパルス幅と同様に、高ピークパワーと高平均出力を同時に提供出来るシステム。極短光パルスのCEP制御・安定化が可能。
ORPHEUS-OPCPA: 20-481W, 0.2-20mL, <10fs / <15fc@800nm, 1kHz-1NHz
OPCPA-HE: Muti-TW, <9fs/250mJ@800nm,10Hz-1kHz

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超高出力対応 液晶空間光変調器 1024x1024 SLM-ULTRA-HIGH POWER

超高出力対応 液晶空間光変調器 1024x1024 SLM-ULTRA-HIGH POWER

高平均出力対応設計 (CWレーザ≥ 1 kW at 1070 nmに最大1.4kWまで位相変調の全体>1波長範囲を保持。アクティブTEC冷却装置搭載の高速・高位相安定型 SLM。
●780-850nm 又は 980-1150nm
●1024x1024ピクセル(17x17μm) アレイサイズ(17.40x17.40 mm)
●回折効率:92~98% (DECミラー)
●高光利用効率:97.2%
 

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ハンドヘルド高出力用パワーディテクタ PRONTOシリーズ:PRONTO-500, PRONTO-6K/10K, PRONTO-SI, PRONTO-500IPL

ハンドヘルド高出力用パワーディテクタ PRONTOシリーズ:PRONTO-500, PRONTO-6K/10K, PRONTO-SI, PRONTO-500IPL

PRONTOシリーズは革新的なEZ吸収体技術を搭載しており、過酷な環境でも信頼性の高い性能を発揮するよう設計されている。フラットな汚れ難いタッチパネル形式の表示画面で使い易い。
タッチパネルから瞬時に計測でき、受光部のダメージスレショルドが高く最強のアブゾーバー(体積吸収型)。開口部:55mm Øのハイパワー(~6K/10kW)用は専用スタンドで簡単に計測可能。高エネルギー(IPL)用あり  

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高エネルギー理科学用・研究開発産業用フェムト秒レーザ (PHAROS: <100fs, 5mJ)

高エネルギー理科学用・研究開発産業用フェムト秒レーザ (PHAROS: <100fs, 5mJ)

100fsを実現し高パルスエネルギーで高平均出力のフェムト秒レーザで、理科学応用にも研究開発・産業用途にも最適。熱的に安定したシールド設計。パルス・オン・デマンド機能とBiBurstオプションで更に高度な加工を実現。
●最大平均出力20W
●最大パルスエネルギー5mJ
●パルス幅100fs~20ps可変
●パルス繰返しシングルショット~1MHz
●直付け高調波(515/343/257/206nm)

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