●研究開発用真空蒸着装置
研究開発用の真空蒸着装置です。
用途に合わせて蒸着用電子銃、低ダメージ用反射電子トラップ、ボンバード蒸着源などの搭載が可能です。
●ボンバード蒸着源
電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ、低欠陥、低吸収、厚膜、ハイレートの成膜に適しています。
電子銃と比較して、基板へのＸ線、反射電子による影響が、大幅に低減されています。