| 住所 | 〒194-0215 東京都町田市小山ケ丘2-2-5 まちだテクノパーク センタービル6F |
|---|---|
| TEL | 042-797-4141 |
| FAX | 042-526-7301 |
| URL | http://www.beams-inc.jp |
| sales@beams-inc.jp | |
| 設立年 | 1996年 |
| 資本金 | 20,000,000円 |
| 従業員数 | 16名 |
| 最終更新日：2026年01月08日 |
高出力・高繰返しのUV～IRのフェムト秒・ピコ秒・ナノ秒レーザー、小型エキシマレーザー、TEACO2レーザーなど豊富なレーザーのラインナップを揃えています。加工装置としてご希望の場合は装置販売もしております。
ドイツ フラウンホーファー研究所で開発された固体レーザー技術INNOSLASテクノロジーを採用した高出力フェムト秒/ピコ秒/ナノ秒レーザーです。独自技術フリートリガ―によってトリガーによるパルス発振制御が可能。
●波長：IR(1030nm/1064nm), VIS(515nm/532nm), UV(343nm/355nm)
●ビーム品質：M2＜1.3
●最大出力：IR400W(マルチモード600W), VIS200W, UV100W
●出力ビーム形状：ガウシャン,ライン,正方形(出荷時選択)
USBインターフェイス
LabView対応
外部トリガ入力対応
測定精度＜20pm
ダイナミックレンジ＞10^8
CWとパルス発振の両方を測定可能
リアルタイム計測（最大10Hz）
フェムト秒レーザーを光源とした装置で①多光子吸収ポリマライゼーション(超微細3Dリソグラフィー)、②セレクティブレーザーエッチング、③レーザーアブレーション、3種類のプロセスを行うことが可能です。
①多光子吸収ポリマライゼーション：レーザーを照射し、樹脂を部分的に材料を硬化させ3次元構築物を製作
最小構築サイズ150nm,最小表面粗さ≦20nm,最大構築速度30mm/s
②セレクティブレーザーエッチング：レーザー照射によってガラス材に改質層を生成させ、化学的エッチングによって改質層のみを除去し、微細なパターン等を形成
最小形成サイズ<1μm,最小表面粗さ<200nm,最大対象物高さ1cm,アスペクト比>1:200,最小径5μm,描画速度50mm/s
③レーザーアブレーション：瞬間的に高いレーザーエネルギーを照射することによって材料を瞬時に蒸散させて加工
超短パルスレーザーを光源とした微細加工装置。独自に開発したトレパニング機構によりテーパー制御が可能。
●レーザー：用途に応じて（フェムト秒/ピコ秒/ナノ秒、IR/VIS/UV、出力5～400W）
●XYZ駆動量：500×300×200mm
●光学系：ビーム整形光学系，スキャナー，トレパニング光学系，分岐光学系
●試料面モニター：同軸モニター機構
●焦点合わせ/位置合わせ：オートフォーカス/画像処理自動位置合わせ
●寸法：幅2,120×奥行1,680×高さ1,950mm
波長：ArF 193nm, KrF 248nm
繰り返し周波数：200Hz, 500Hz, 1000kHz
パルスエネルギー：ArF 6mJ, KrF 10mJ
平均出力：ArF 1.2W＠200Hz,3W＠500Hz,6W＠1000Hz, KrF 2W@200Hz,5W@500Hz,10W@1000Hz
ビームサイズ：6×3mm
寸法：L560×W355×H445mm
重量：約80㎏
LD励起高パルスエネルギーレーザー
●励起光源：LD
●波長：1064nm, 532nm, 355nm
●パルスエネルギー：1000mJ＠1064nm, 600mJ＠532nm, 360mJ@355nm
●パルス幅：4～25ns
●ビーム品質：M2＞7
●寸法：L1,100×W450×H150mm
●重量：<30㎏
空冷式LD励起4波長レーザー
●波長：1064nm, 532nm, 355nm, 266nm
●パルスエネルギー：>5mJ＠1064nm, >4mJ@532nm, >3mJ@355nm, >1mJ@266nm
●繰り返し周波数：1～100Hz
●パルス幅：5～15ns
●ビーム径：約2mm
●寸法：L440×W159×H220mm
波長2.8μmナノ秒ファイバーレーザー 透明度の高い半導体、非線形材料および樹脂加工に最適
●波長：2.8μm
●出力：10mW～３W
●繰り返し周波数：1～100kHz
●パルス幅：30～300ns
●パルスエネルギー：10～＞100μJ
●ビーム品質：M2<1.3
●寸法：W610×D432×H89mm
レーザー加工用光学モジュール
●ビームエキスパンダー(モーター駆動式倍率調整)
●ビームローテーター（テーパー角制御）
●同軸モニター光学系
●2軸ビームスキャナー
●テレセントリックレンズ(f=50mm, 60mm, 100mm, 160mm, 255mm)
●2分岐光学系
●制御ソフト
