| 住所 | 〒160-0006 東京都新宿区舟町7番地 ロクサンビル7F |
|---|---|
| TEL | 03-3351-0717 |
| FAX | 03-3351-6771 |
| URL | http://www.rayture-sys.co.jp/ |
| 設立年 | 2002年 |
| 資本金 | 10,000,000円 |
| 代表取締役 | 丸山 多令 |
| 最終更新日：2023年02月20日 |
レーザー発振器、レーザー加工/マーキング装置、光学部品の輸入販売・アフターサービス、レーザー応用装置（代表例：リペア装置、微細加工機）の製造・設計・販売・アフターサービス
RXレーザーシステムは、世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステムです。最大100Wを発振し、レーザーヘッドとレーザー電源を一体型にしたオールインワン構造により、同クラスのピコ秒レーザの中では最小、最軽量な点が特長です。
DX-ACシリーズは完全空冷で、最大15W＠532nm、最大10W＠355nmモデルまでラインナップしています。
レーザーヘッドとレーザー電源を一体型にしたオールインワン設計を新たに採用し、レーザーシステム構成がシンプルで設置面積が小さいため装置への組込みにも最適なレーザーシステムになっています。
高ビーム品質(M2<1.1)、ビーム位置安定性はもちろん、DXレーザーシステムはパルス-to-パルス安定性が高いことが特徴のため、印字/切断/スクライビングなどのレーザー微細加工に最適なレーザーシステムです。また多機能な制御ソフトウエアにより、リアルタイム外部TTL制御やアナログ制御が可能です。
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の超寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用している、最大100W＠532nm、最大55W＠355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
DPシリーズは空冷、<10nsの短パルス幅、最大パルスエネルギー20mJ＠1053nmを発振するコンパクト、高パルスエネルギー・ナノ秒DPSSレーザーシステムです。1053nm、527nm、351nm、263nm発振自動切換モデルや、繰返し周波数100Hzモデル、1ｍJ＠2kHzモデルなど様々なラインナップがあります。
DMシリーズはPhotonics Industries International社レーザーの中で最も高いパルスエネルギーを発振するように設計されたナノ秒DPSSレーザーシステムです。Nd:YAG、Nd:YLFを媒体とし、最大100ｍJ＠527nm(1kHz)モデルや最大50kHz繰返し周波数モデルまでラインナップしています。
100万円台からモデルラインナップをしているフラッシュランプ励起Nd:YAGレーザーシステムです。パルスエネルギーレンジは30mJから最大850mJまであり、高いパルスエネルギーが必要な用途に最適なコストパフォーマンスの高いレーザーシステムです。発振波長バリエーションは1064nm、532nm、355nm、266nm、213nmまでラインナップし、またデュアルヘッド（PIV）モデル、TEM00モデル等を標準でラインナップしています。
TRLi レーザーシリーズは小型モデルであるNanoシリーズの技術を元に、より高いパルスエネルギーとより高い繰返し周波数を実現したフラッシュランプ励起Nｄ：YAGレーザーシステムです。最大パルスエネルギーは、850ｍJ＠1064nmです。
TRLiシリーズにはTRLi G(高ビーム品質モデル)、TRLi ST(安定型テレスコピック共振器タイプ)、TRLi HR(高繰返しタイプ)の3シリーズがございます。
英国Litron Lasers社製LPYレーザーシステムは最大3.5Jという非常に高いパルスエネルギーを発振するフラッシュランプ励起Nd:YAGレーザーシステムです。
インバー型共振器設計により堅牢なレーザーヘッドになっています。発振波長は1064nmのほかに、532nm、355nm、266nm、213nmをラインアップし、最大パルスエネルギー3.5J発振モデル、最大繰返し周波数200Hzモデルなど様々なモデルをラインナップしています。
LD励起固体（DPSS）レーザーレーザーシステムで超小型なレーザーヘッドながら最大120ｍJかつ300Hz発振を実現したシリーズです。非常に高いパルス間安定性と高い繰返し周波数を兼ね備えているため、分光、LIBS、LIDAR、リモートセンシング、レーザー超音波、レーザーアブレーションなど様々な用途に適しているレーザーシステムです。
発振波長は1064nm、532nm、355nm、266nm、213nmモデルまでラインナップしています。
Nano PIVレーザーシステムはNanoレーザーシステムの共振器2つを1つのレーザーヘッドに納めたデュアルヘッドレーザーシステムです。
TTL信号を入力することで各共振器の発振を制御する事が可能なためPIV用途はもちろん、共振器1つだけを使用するアプリケーションにも対応が可能です。
小型なレーザーヘッドでありながら最大パルスエネルギーは200mJ＠532nm、最大周波数は100Hzまで発振可能モデルがございます。
Aurora II Integra OPOは、フラッシュランプ励起Nd:YAGレーザーを励起光として用いている波長可変高パルスエネルギーOPOレーザーシステムです。
最大パルスエネルギーは45mJ、可変波長領域は400nm～710nm、710～2300nmをカバーしています。またUVハーモニックオプションを用いることで205～419nmをカバーしています。操作はタッチパネルコントローラ、また波長変換結晶には自動調整機能が備えられているユーザーフレンドリーな設計になっています。
単一周波数（縦モードシングル）CW（連続）発振DPSSレーザーシステムです。発振出力は532nmモデルで最大750mW、660nmモデルで最大200mWモデルまでラインナップしています。
英国Laser Quantum社製コンパクトCW発振レーザーは高い出力安定性、低ノイズ、高ビーム品質を兼ね備えたCW発振DPSSレーザーです。波長ラインナップは1064nm、671nm、660nm、561nm、532nm、473nmをラインアップしています。また単一周波数モデルもラインアップしており、ラマン分光、ダイアモンドNVセンター、蛍光分析、DNAシーケンサ、励起用光源、光ピンセット/トラップ、過熱用、PIV（可視化）、半導体検査などあらゆる用途に対応するモデルが御座います。
英国Laser Quantum社製axiom(アキシオム)660は市場で唯一最大6Wを実現した660nmCW発振、DPSSレーザーシステムです。高出力ながら高出力安定性（＜1.0％rms）と低ノイズ（<1.0%rms)を兼ね備えており、粒子画像流速測定法（PIV）、ラマンイメージング、幅広い領域の蛍光イメージングなどに内的なレーザーシステムです。
英国Laser Quantum社製Finesse（フィネス）レーザーシステムは発振波長532nm、最大出力16Wまでモデルをランナップしている高安定・高出力GRNレーザーシステムです。出力安定性は<0.05%rms、ノイズは<0.02%rmsと非常に高い安定性をもったレーザーシステムです。またCEP機能を有したモデルを標準ラインナップしており、粒子画像流速測定法（PIV）、Ti:Sapphireレーザーの励起光源に最適なレーザーシステムです。
市販フェムト秒レーザーの中で最短クラスのパルス幅<5.5fsを発振する非常にユニークなレーザーシステムです。励起光源とTi:サファイアオシレーターを同一筐体に組み込んでおり、お客様は簡単なボタン操作でお使い頂ける設計となっており、またインターネット回線に接続することでメーカーのエンジニアとリアルタイム診断・調整を行うことが出来るユーザーフレンドリーなレーザーシステムです。
発振周波数1GHz/10GHz、パルス幅最小15fs 最大1.8Wフェムト秒レーザーシステム。オートチューニングシステムを搭載したユーザーフレンドリーレーザー。740から930nmまでの波長可変モデルも御座います。
市場で数少ない繰返し周波数250 MHzを発振する波長可変フェムト秒レーザーです。平均出力は最大2.3W、パルス幅50fsを発振し、発振波長を720nm～920nmの領域で可変することが可能です。
Laser Quantum社独自のセルフスタート、モードロックのモニター及びメンテナンスシステムを非常に堅牢なメカニカルデザインのレーザーヘッドに組み込んでいる非常に安定したフェムト秒レーザーシステムです。
繰返し周波数84MHzもしくは100MHz、最大出力600mWで発振する簡単操作／ユーザーフレンドリーなシリーズです。
周波数分解能が最大1GHz、測定可能なスペクトル領域が6THzを超えるテラヘルツ時間領域分光システムです。高速スキャンにより、100秒の観測時間で60dB以上のダイナミックレンジを得られます。
LD励起個体レーザーを搭載した高速ＵＶレーザーマーキングシステムです。
紫外線アブレーションや多くの材料に彫刻することが可能で、かつ、サファイヤガラス/樹脂/金属などへのスクライブ/穴あけ加工、 ITO等の薄膜除去などの微細加工にもお使いいただけます。また金属への耐腐食性の高い印字を行うことが可能です。
サムライシステムの大きな特徴は高いカスタマイズ性です。
導入後にお客様がレーザーシステムの載せ替えやFΘレンズ等の光学レンズ（集光スポット径や印字エリア変更）を行うことが出来ます。その為、初めは印字用として低出力レーザーを搭載、その後加工用やに高出力レーザーへの載せ替えなどが可能です。
レーザーシステムは355nm（UV）波長モデルは最大50Wモデルまでラインナップ、また532nm等他の波長レーザーにも対応可能です。
