| 住所 | 〒220-0012 横浜市西区みなとみらい 4-4-2 横浜ブルーアベニュー12階 |
|---|---|
| TEL | 045-274-5273 |
| FAX | |
| URL | https://beneq.com/ |
| toshihiko.nishiyama@beneq.com | |
| 設立年 | 2021年 |
| 最終更新日：2025年01月30日 |
OPIE '25 出展の見どころ
Beneqはフィンランド、Espooに本社を置き、40年近くの歴史を持つALD成膜装置の製造販売、サービスをグローバルに行っているALDの専門企業です。
今回の出展では、光学系薄膜のアプリケーションや、大容量、３D形、の生産に適したBeneq P-シリーズ。高速成膜を実現した、Spacital（空間分離型）ALDの Beneq C2Rなどの光学成膜に適したALD装置をご紹介します。
企業PR
Beneq is the home of atomic layer deposition.1984 年に、ALD を使用した世界初の工業生産を確立しました。現在、R&D (TFS 200、TFS 500)、半導体デバイス製造 (Transform TM)、3D およびバッチ生産 (P400A、P800、P1500)、超高速空間 ALD (C2R)、ロールツーロール ALD (Genesis) 向けの製品で市場をリードしています。
Beneq 独自の開発サービスにより、新しい ALD プロセスの顧客による導入と概念実証が簡素化され、コーティング サービスでは最先端の ALD 生産をアウトソーシングすることで市場投入までの時間が短縮されます。当社のエンジニアと専門家のチームは、研究者が ALD ツールを活用できるようにすることに貢献しています。
