| 住所 | 〒220-0012 横浜市西区みなとみらい 4-4-2 横浜ブルーアベニュー12階 |
|---|---|
| TEL | 045-274-5273 |
| FAX | |
| URL | https://beneq.com/ |
| toshihiko.nishiyama@beneq.com | |
| 設立年 | 2021年 |
| 取締役社長 | Tommi Vainio |
| 最終更新日：2026年01月06日 |
OPIE '26 出展の見どころ
Beneqはフィンランドに本社を置き、40年の歴史を持つALD（原子層成膜）装置の製造販売、サービスをグローバルに行っているALDの専門企業です。
今回の出展では、光学薄膜成膜のアプリケーションに着目した、大容量、３D形状の生産に適したBeneq P-シリーズや、高速成膜を実現した、Spacital（空間分離型）ALDの Beneq C2RなどのALD装置をご紹介します。
企業PR
“Beneq is Home of ALD”
Beneq は 1984 年に、ALD 技術を用いた世界初の工業製品を生産したパイオニアです。現在では、R&D 向け装置（TFS 200、TFS 500）、半導体デバイス製造向け（Transform™、Transmute™）、3D およびバッチ生産向け（P400A、P800、P1500）、超高速空間 ALD（C2R）、ロールツーロール ALD（Genesis）など、多彩な製品ラインアップで市場をリードしています。
さらに、Beneq の独自開発サービスにより、新しい ALD プロセスの導入や概念実証をスムーズに進めることができ、コーティングサービスを活用すれば最先端の ALD 生産をアウトソーシングすることで市場投入までの時間短縮も可能です。また、当社のエンジニアおよび専門チームが、研究者の皆様が ALD 技術を最大限に活用できるよう強力にサポートします。
